Здравствуйте! Для таких задач сейчас активно применяют
плазмохимическое травление кремния — это направление хорошо представлено в оборудовании компании ООО «ТТМ». Их установки основаны на технологиях RIE и ICP-RIE, что позволяет добиваться высокой однородности и аккуратности процесса даже при сложных профилях. Основное преимущество — возможность точного контроля скорости травления и минимального воздействия на подложку. Кроме того, оборудование «ТТМ» можно адаптировать под конкретные технологические задачи, а также интегрировать в существующую производственную линию.
